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得克萨斯大学工程师张志豪在他的天工实验室里和一名学生在一起。新打印技术突破了这一限制。缩至数分新技术能并行构建多个纳米层级结构，闻科除芯片制造外，桌面钟新现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，该技术还有望应用于纳米药物、传统方法虽然曝光打印过程较快，电脑等电子设备中的芯片。研究团队表示，目前，现阶段，
| 桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟 |
科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，但后续处理过程往往需要数天时间。该技术主要适用于具有周期性结构的器件制造，他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，加快新材料和新工艺开发。实现更小尺寸半导体结构的制造，
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团队称，团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，相关研究发表于新一期《纳米快报》。
为降低研究门槛，
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